ELO SERWIS


Idź do treści

Napylarki, Ewaporatory, CPD

Quorum Technologies

Strona producenta
www.quorumtech.com

Napylarka SC7620 Sputter Coater

  • Kompaktowa, próżniowa napylarka do skaningowego mikroskopu elektronowego.
  • Sterowanie manualne
  • Pompa rotacyjna
  • Magnetyczna głowica do "zimnego" napylania prób,
  • Cylinder ze szkła Pyrex średnica wewnętrzna 100mm, wysokość 135mm,
  • 180 sekundowy regulator czasowy z rozdzielczością 15 sek,
  • Regulowana wysokość stolika z próbami w celu optymalnego napylenia,
  • Zawór igłowy przy dopływie Argonu,
  • Target złoto/pallad 80/20% jako standard (dostępne targety: Au, Au/Pd, Ni, Ag, Pd, Cu ).
  • Możliwość rozbudowy o napylanie węglem


Q150R Modularny system napylania próżniowego z pompą rotacyjną

  • Modularny, wysokorozdzielczy system do napylania matalami i ewaporacji węglem
  • Próżnia uzyskiwana przy pomocy pompy rotacyjnej
  • Inteligentny system rozpoznawania aktualnie używanej głowicy do napylania - wymiana dodatkowych głowic następuje w ciagu kilkunastu sekund a inteligentny system logiczny automatycznie rozpoznaje głowicę i odpowiednio ustawia system.
  • Komora: średnica wewnętrzna 150 mm, wysokość127mm
  • Solik obrotowy (8-20rmp) o średnicy 50mm i regulowanej wysokości (od 38-79mm) jako standard
  • Napylanie metalami szlachetnymi (nieoksydującymi) takimi jak złoto (Au), platyna (Pt), srebro (Ag), Pallad (Pd), miedź (Cu), nikiel (Ni),czy też stopów Au/Pd, Pt/Pd
  • Możliwość zastosowania głowicy do napylania plecionką węglową lub głowicy z prętami weglowymi - idealne EDS i WDS
  • Zaawansowany system ewaporacji węglem -prosta operacja, powtarzalne wyniki
  • Dokładna kontrola ewaporacji umozliwia wykonywanie cienkego filmu węglowego (np. pokrywającego siatki do TEM)
  • System z ekranem dotykowym- pelna automatyczna kontrola, szybkie wprowadzanie danych, prosta operacja
  • Różnorodna możliwosc zdefiniowania i zapisania indywidualnego protokołu napylania- idealne przy grupie użytkowników
  • Automatyczna kontrola próżni z możliwością wstępnego zaprogramowania do procesu napylania i materiału- ustawianie i regulacja zaworów nie jest konieczna
  • Możliwość nanoszenia grubszych warstw - napylanie w czasie do 60min bez konieczności zapowietrzania
  • Szybka wymiana szerokiej gamy stolików
  • Możliwość podłączenia do internetu poprzez lokalny serwer


Możliwość rozbudowy systemu o:

  • Monitor grubości napylanej warstwy (Film Thickness Monitor)- system wskazuje grobość napylonej warstwy w ustawionym czasie lub automatycznie kończy napylanie po uzyskaniu wybranej grubości warstwy
  • Głowica do ewaporacji prętami węglowymi o średnicy 3,05mm
  • Dodatkowę głowica do szybkiej zmiany napylania metalem
  • Glowe discharge insert - do plazmowego czyszczenia powierzchni (konwersja hydrofobiczna lub hydrofiliczna)
  • Cylider o wysokości 214mm do napylania wysokich prób
  • Stolik obrotowy o średnicy 50mm i regulowanej wysokości (37-60mm) możliwościa umieszczenia 6 stolików na próby (15,10,6,5 mm oraz 1/8") z możliwością pochyłu do 90 stopni
  • Stolik obrotowy o średnicy 90mm z możliwościa umieszczenia na nim 2 szkiełek mikroskopowych (75mm x 25mm)
  • Stolik obrotowy "rota cota"- planetarny stolik o średnicy 50mm
  • Płaski stolik z możliwościa umieszczenia na nim płytek (waferów) o średnicy 100mm/4"
  • Możliwość rozbudowy systemu E lub S do systemu ES


Q150R dostępny jest w trzech wersjach:
Q150R S - wysokorozdzielczy system napylania metalami szlachetnymi
Q150R E - system do napylania prób do SEM włóknem węglowym lub elektrodami węglowymi
Q150R ES - kombinacja systemu napylania metalami i węglem.

Q150T Modularny system napylania próżniowego z pompą turbomolekularną

Parametry takie same jak w systemie Q150R
Różnice:

  • Próżnia uzyskiwana przy pomocy wstępnej pompy rotacyjnej i pompy turbomolekularnej (70l/sek)
  • Bardzo drobne ziarno napylanej warstwy-idealny system do napylania prób do mikroskopów wysokorozdzielczych FE SEM
  • Napylanie metalami szlachetnymi (nieoksydujących) talkimi jak złoto (Au), platyna (Pt), srebro (Ag), Pallad (Pd), miedź (Cu), nikiel (Ni), czy też mieszanek Au/Pd, Pt/Pd
  • Napylanie metalami oksydujacymi - Chrom (Cr), Wolfram (W), Aluminium (Al), Tytan (Ti), Żelazo (Fe), Kobalt (Co), Cyna (Sn), Molibden (Mo), Iryd (Ir), Magnez (Mg), Tantal (Ta), ITO (Indium Tin Oxide)
  • System "vacuum shutdown" -powyłączeniu urzadzenia komora pozostaje pod próżnią


Możliwość dodatkowej rozbudowy systemu o:
ewaporację metalami w systemi upwards lub downwards (TE i TES wersja)(w zestawie koszyczki wolframowe oraz łódki molibdenowe)(pozostałe możliwości rozbudowy jak w systemie Q150R)

Q150T dostępny jest w trzech wersjach:
Q150T S - wysokorozdzielczy system napylania metalami szlachetnymi
Q150T E - wysokopróżniowy system do napylania prób do SEM i TEM prętami węglowymi
Q150T ES - kombinacja systemu napylania metalami i węglem.

Napylarka Q300T D

  • Dwie głowice do sekwencyjnego napylania dwoma targetami bez rozszczelniania próżni
  • Napylanie metalami szlachetnymi lub oksydującymi (targety o średnicy 57mm): Al,C,Cr,Co,Cu,Au,Au/Pd,ITO,Ir,Fe,Mg,Mo,Ni,Pd,Pt,Pt/Pd,Ag,Ta,Sn,Ti,W
  • Target Cr (0,3mm) i Au (0,1mm) jako standard
  • Automatyczna detekcja targetów i i ustawienie ich gęstości
  • Praca w pełni automatyczna kontrola za pomoca ekranu dotykowego
  • Możliwość tworzenia indywidualnych programów (profili)
  • Duża komora o średnicy wewnętrznej 283mm (12") i wysokości 127 mm (opcjonalnie cylinder o wysokości 214mm)
  • Ultra wysoka rozdzielczość (ziarno chromu mniejsze niż 0,5nm) - idealny system do FE SEM
  • Cienka, równomierna warstwa napylania
  • System z pompą turbomolekularną (70 l/sek) chłodzona powietrzem i wstepną pompą rotacyjną (50l/min)
  • Automatyczna kontrola próżni
  • Czujnik próżni pirani (mozliwa do uzysknia próżnia 5x10-5mbara- próżnia napylania 5x10-3 do 5x10-2)
  • Vacuum shut down - możliwosc pozostawienia urządzenia pod próżnią po zakończonej pracy
  • Możliwość wyświetlenia na ekranie szczegółów ostatnich 100 napylań
  • Możliwość napylania do 60 min bez rozszczelniania komory (nakładanie cienkich powłok)
  • Stolik obrotowy płaski o średnicy do 4" (102mm) z regulacją wysokości w zakresie od 25-71mm


Wyposażenie dodatkowe

  • Stolik rotacyjny płaski 6" (152mm)
  • Stolik rotacyjny o średnicy 50mm na sześc stolików o średnicy 15, 10, 6,5mm lub 1/8"
  • Stolik rotacyjny o średnicy 50mm z regulowana wysokościa (30-80mm) i pochyłem (0-30 stopni) (na sześc stolików jak wyżej)
  • Stolik planetrany "Rota Cota" 50mm z pochyłem do 30 stopni
  • Stolik rotacyjny na dwa podstawowe szkiełka mikroskopowe 75x25mm lub jedno 75x50mm
  • Cylinder o wysokości 214mm
  • Dwukanałowy monitor grubości napylanej warstwy (FTM) (dwa kryształy, każdy na oddzielny target, rozdzielczość 0,1nm) - wskazuje na gubośc napylonej warstwy w ustawionym czasie lub przerywa proces po uzyskaniu ustawionej grubości
  • Czujnik próżni w pełnym jej zakresie (1000 mbara do 5x10-9mbara)
  • Opcjonalnie do pompy rotacyjnej pompa membranowa lub pompa scroll





Napylarka Q300T T

  • Napylarka wysokorozdzielcza z pompą turbomolekularną (70l/min)
  • Trzy głowice do napylania dużych powierzchni (do 8"/203mm)
  • Napylanie metalami szlachetnymi i oksydującymi:
  • Al,C,Cr,Co,Cu,Au,Au/Pd,ITO,Ir,Fe,Mg,Mo,Ni,Pd,Pt,Pt/Pd,Ag,Ta,Sn,Ti,W
  • Możliwy wybor jednego targetu do napylania małych prób do SEM i FE SEM
  • Komora o wymiarach wewętrznych 283m Dia x 127mm H
  • Inne parametry i opcje jak przy Q300T D



Napylarka Q300R T

  • Napylarka wysokorozdzielcza z pompą rotacyjną
  • Trzy głowice do napylania dużych powierzchni (do 8"/203mm)
  • Napylanie matalami szlachetnymi (Au, Pd, Pt, Ni, Ag, Cu, Au/Pd, Pt/Pd)
  • Możliwy wybor jednego targetu do napylania małych prób do SEM i FE SEM
  • Komora o wymiarach wewęetrznych 283m Dia x 127mm H
  • Inne parametry i opcje jak przy Q300T D


UWAGA
Do wszystkich napylarek niezbędny jest argon 99,999
Do urzadzeń napylających materiałami oksydujacymi zalecany jest również azot 99,996
Butle z gazami powinne być wyposażone w dwustopniowe reduktory 200/1,5bara

Ewaprorator K975X TURBO
Kompaktowy, wysokopróżniowy TEM/SEM ewaporator węglowy z komorą 250 mm

  • Automatyczny sekwencyjny system próżniowy
  • Pompa turbomolekularna
  • Czysta i szybka próżnia
  • Komora 250 mm śred. x 300mm wys.
  • Stolik obrotowy, 60mm śred. nastawiany pochył od 0-90
  • Zmienny system kontroli odgazowania
  • Unikalny system działa do ewaporacji prętami węglowymi
  • Nastawiana pozycja działa z nastawianym pochyleniem (Low Angle Shadowing)
  • Restrykcyjna kontrola zapowietrzania zapobiegająca zaburzenia próby
  • Przycisk pulsacyjny kontrolujący ewaporację
  • Szybki system wymiany głowicy
  • Stolik na próby z możliwością pochyłu od 0-45°
  • Modularna elektronika
  • Menu kierujące wprowadzaniem danych użytkownika
  • Wyświetlacz LCD wszystkich parametrów



Aparaty do suszenia w punkcie krytycznym
(CPD- Critical Point Dryer)


Najbardziej popularne urządzenia (ponad 6.000 instalacji na całym świecie)
Systemy manualne, do ich uzytkowania niezędna jest ciepła/zimna wodą (do uzyskania temperatury ca 35
şC) oraz płynny dwutlenek wegla CO2- butla z syfonem)
Przyłacza do butli są w zestawie
Możliwośc zastosowania zewnętrznych systemó chłodzenia i grzania w obiegu zamkniętym

Model 3100 „Jumbo”

  • Podobnie jak model E3000 jednak z komorą o wiekszej średnicy
  • Wymiary horyzontalnej komory: średnica 63,5mm, długość 82mm
  • Potrójna łodka z dziewięcioma koszykami na próby
  • Wskaźniki temperatury i ciśnienia
  • Okno podglądu 25mm
  • zabezpieczenie przeciwko nadciśnieniu


Wyposażenie dodatkowe

  • Uchwyt na siatki (3,05mm) do TEM
  • Uchwyt na szkiełka nakrywkowe
  • Uchwyt na duże, nieregularne próby
  • Pojemniki porowate z wieczkiem do małych i delikatnych prób (12,5mm)

Aparat do suszenia w punkcie krytycznym CPD K850X

  • Urządzenie do suszenia preparatów biologicznych w atmosferze CO2 w punkcie krytycznym
  • Pionowa komora z górnym wlewem i dolnym odpływem
  • Temperatura standardowej operacji 35şC, ciśnienie1350 psi. ( temp. punktu krytycznego 31şC, ciśnienia1100 psi)
  • Adiabatyczne (bez wymiany ciepła) chłodzenie i termoelektryczne grzanie
  • Komora z podglądem bocznym i tarczą ochronną „Lexan”
  • Mieszadło w celu poprawienia wymiany płynów
  • Monitorng i kontrola temperatury z wyłącznikiem termicznym i z zabezpieczeniem nadmiernego wzrostu ciśnienia


Aparat do suszenia w punkcie krytycznym K850WM

  • CPD z dużą komora do waferów i MEMS
  • wymiary komory 170mm śred wewn x 15mm wys.
  • komora wertykalna z górnym wpływem i dolnym wypływem
  • możliwosc suszenia waferów o śrdnicy 150mm (6")
  • Termoelektryczne grzanie z kontrolą temperatury
  • Bezpieczna kontrola ciśnienia

Powrót do treści | Wróć do menu głównego